高精度パターンの外観の検査方法および装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：若林忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-287303
公開番号（公開出願番号）：特開平10-185531
出願日： 1997年10月20日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】高精度化するレチクルあるいはLSI自身のパターンの外観検査における検査時間の短縮を可能とする外観検査方法および装置を提供する。【解決手段】レーザビームを走査させる走査手段120、125と、レーザビームを複数に分岐させそれぞれを識別するための識別標識を付与する2分割光学系130と、分岐し識別標識を付与されたレーザビームを試料面に照射する照射手段と、試料面より反射する光線および該試料面を透過する光線の少なくとも一方を検出する画像信号検出手段152〜157、161〜167と、識別標識によりそれぞれの分岐走査レーザビームを識別し、検出手段から得られる検出信号を用いて試料面の画像を得て欠陥検出を行う画像処理ユニット191、画像表示部192、およびデータ入力部193を有するシステム制御部190と、試料182を保持しX軸、Y軸方向に駆動するXYステージ181とを備える。

請求項（抜粋）：

試料面をレーザビームで検査する検査方法であって、前記レーザビームを複数のレーザビームに分岐させるレーザビーム分岐工程と、前記レーザビームのそれぞれに識別標識を付与する識別標識付与工程と、前記試料面を識別標識を付与された複数の前記レーザビームで走査する走査工程と、識別標識を付与された複数の前記レーザビームの反射光と透過光の少なくとも一方を用いて前記試料面の画像を提供する画像処理工程と、を備える検査方法。

IPC (2件)：

G01B 11/24 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01B 11/24 F , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Z , H01L 21/66 A , H01L 21/66 L

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭62-263450
特開昭49-067576
特開昭54-019664

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