特許
J-GLOBAL ID:200903024211068967

汚染水中のヒ素除去剤およびその製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-098827
公開番号(公開出願番号):特開2006-272260
出願日: 2005年03月30日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】 アトマイズ法などによって製造される高密度で安価な鉄を主たる構成素材として利用し、被処理水中に含まれるヒ素を効率よく安価に除去することのできるヒ素除去剤とその製法を提供すること。【解決手段】 ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去するための除去剤であって、鉄粉の表面が鉄の水酸化物で被覆されている、ヒ素除去性能に優れると共に除去後の処理効率にも優れたヒ素除去剤である。この除去剤は、水に可溶性の鉄塩を含む水溶液中で鉄粉を撹拌し、該鉄粉の表面に鉄水酸化物を生成・付着させることによって得ることができる。
請求項(抜粋):
ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去するための除去剤であって、鉄粉の表面が鉄の水酸化物で被覆されたものであることを特徴とする汚染水中のヒ素除去剤。
IPC (3件):
C02F 1/28 ,  B01J 20/06 ,  C01G 49/02
FI (3件):
C02F1/28 B ,  B01J20/06 A ,  C01G49/02 Z
Fターム (22件):
4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BB07 ,  4D024BC04 ,  4G002AA05 ,  4G002AB02 ,  4G002AD04 ,  4G002AE05 ,  4G066AA27B ,  4G066AA27C ,  4G066AA39A ,  4G066AA47A ,  4G066AA50A ,  4G066AA53A ,  4G066BA11 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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