特許

J-GLOBAL ID：200903024213547161

粒子転写膜の製造方法および粒子保持膜の製造方法ならびに異方性導電膜

発明者： 稲垣 宏樹 ,  林 恭弘 ,  佐藤 明生 ,  片山 晶雅 ,  下村 政嗣 ,  藪 浩
出願人/特許権者： 東海ゴム工業株式会社 ,  国立大学法人 北海道大学
代理人 (1件)： 上野 登
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-020963
公開番号（公開出願番号）：特開2008-186761
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

【課題】ハニカム状に狭ピッチに導電性粒子を配列させることができ、かつ、導電性粒子を保持する膜材料の選択幅を広げることが可能な技術を提供すること。【解決手段】多孔質膜の孔部に保持させた導電性粒子を、高分子製の平膜表面に転写して粒子転写膜を製造するにあたり、水滴に由来して形成され、かつ、ハニカム状に配列した多数の孔部を有する多孔質膜を使用する。また、このようにして得られた粒子転写膜が有する導電性粒子を、平膜内に埋め込んで保持させ、粒子保持膜を製造する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多孔質膜の孔部に保持させた導電性粒子を、高分子製の平膜表面に転写する粒子転写膜の製造方法であって、 前記多孔質膜は、水滴に由来して形成され、かつ、ハニカム状に配列した多数の孔部を有することを特徴とする粒子転写膜の製造方法。

IPC (5件)：

H01R 43/00 ,  H01B 13/00 ,  H01B 5/16 ,  H01R 11/01 ,  C08J 9/36

FI (5件)：

H01R43/00 H ,  H01B13/00 501P ,  H01B5/16 ,  H01R11/01 501C ,  C08J9/36

Fターム (22件)：

4F074AA70 ,  4F074AA97 ,  4F074AG20 ,  4F074CB34 ,  4F074CB47 ,  4F074CC10Z ,  4F074CC22X ,  4F074CC28Y ,  4F074CE04 ,  4F074CE12 ,  4F074CE24 ,  4F074CE48 ,  4F074CE94 ,  4F074DA03 ,  4F074DA23 ,  4F074DA47 ,  5E051CA03 ,  5E051JB01 ,  5G307HA02 ,  5G307HB01 ,  5G307HB03 ,  5G307HC01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 異方導電フィルムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-085103   出願人：住友ベークライト株式会社
• 異方性導電膜およびその製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005006584   出願人：東海ゴム工業株式会社