特許
J-GLOBAL ID:200903024259636274
磁気記録媒体用フッ素系潤滑剤、その製造方法及び磁気記録媒体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-351388
公開番号(公開出願番号):特開2001-164279
出願日: 1999年12月10日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】多量の有機溶媒を使用することなく、従来技術と比較して短時間で、低分子量体や官能基未導入体などの混入物を除去できる精製したフッ素系潤滑剤の製造方法、分子量及び分子量分布が制御され、かつ官能基導入率の高い磁気記録媒体用フッ素系潤滑剤、及び良好な摺動特性及び耐久性を有する磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】官能基導入フッ素系潤滑剤を、超臨界状態の二酸化炭素を移動相とし、シリカゲルを固定相とするクロマトグラフィーに供し、複数の画分に分別し、得られた画分から官能基導入率の高い画分を選択する磁気記録媒体用フッ素系潤滑剤の製造方法。磁気記録媒体用の官能基導入フッ素系潤滑剤であって、平均官能基導入率が95%以上である潤滑剤。上記の製造方法により得られた潤滑剤または上記の潤滑剤を磁性層上に直接または間接的に塗布した磁気記録媒体。
請求項(抜粋):
官能基導入フッ素系潤滑剤を、超臨界状態の二酸化炭素を移動相とし、シリカゲルを固定相とするクロマトグラフィーに供し、複数の画分に分別し、得られた画分から官能基導入率の高い画分を選択することを特徴とする磁気記録媒体用フッ素系潤滑剤の製造方法。
IPC (5件):
C10M107/38
, C10M177/00
, G11B 5/725
, C10N 40:18
, C10N 70:00
FI (5件):
C10M107/38
, C10M177/00
, G11B 5/725
, C10N 40:18
, C10N 70:00
Fターム (8件):
4H104BD06A
, 4H104BE05A
, 4H104CD04A
, 4H104CE19A
, 4H104JA01
, 4H104LA20
, 4H104PA16
, 5D006AA01
引用特許: