特許

J-GLOBAL ID：200903024356540664

PVD装置

発明者： 玉垣 浩
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-210945
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050239
出願日： 1997年08月05日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】 均一な膜厚分布を極めて容易に得ることができるPVD装置を提供すること。【解決手段】 平板状の基板8が、同一円周上に周方向等間隔に且つその接線方向を向くように配置され、蒸発源10が前記基板8の平面に対面するよう配置され、前記基板8または蒸発源10が前記円の中心を回転中心として回転するよう構成されたPVD装置において、前記回転角度を検出する角度検出手段7と、該検出手段7の検出角度に基づき、回転速度を変調する速度制御手段6とが設けられている。

請求項（抜粋）：

平板状の基板が、同一円周上に周方向等間隔に且つその接線方向を向くように配置され、蒸発源が前記基板の平面に対面するよう配置され、前記基板または蒸発源が前記円の中心を回転中心として回転するよう構成されたPVD装置において、前記回転角度を検出する角度検出手段と、該検出手段の検出角度に基づき、回転速度を変調する速度制御手段とが設けられたことを特徴とするPVD装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/00 ,  C23C 14/54

FI (3件)：

C23C 14/24 U ,  C23C 14/00 Z ,  C23C 14/54 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-050656   出願人：新明和工業株式会社
• 特開平2-277770
  
• 特開昭59-157278