特許
J-GLOBAL ID:200903024429839574

ベシクル技術を利用して下刷りすることにより染料ベースのインクの彩度とエッジ明瞭度を高める方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-247224
公開番号(公開出願番号):特開2001-123099
出願日: 2000年08月17日
公開日(公表日): 2001年05月08日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 彩度及びエッジ明瞭度が増大され、且つカラー-カラーブリードが低減されたインクジェット印刷用染料ベースのインクを提供する。【解決手段】 第1の符号の電荷を有する少なくとも1つの水溶性染料と少なくとも1つの界面活性剤から形成されるベシクルとを含有する水性の染料ベースインクであって、前記ベシクルは、2個又は偶数個の単層がその内部と外部の境界を定める壁を形成するように背面と背面で接続された二重層壁を包含し、前記水溶性染料は、前記ベシクルの前記内部と前記外部との間に主に分布される、水性の染料ベースインク。
請求項(抜粋):
第1の符号の電荷を有する少なくとも1つの水溶性染料と少なくとも1つの界面活性剤から形成されるベシクルとを含有する水性の染料ベースインクであって、前記ベシクルは、2個又は偶数個の単層がその内部と外部の境界を定める壁を形成するように背面と背面で接続された二重層壁を包含し、前記水溶性染料は、前記ベシクルの前記内部と前記外部との間に主に分布される、水性の染料ベースインク。
IPC (3件):
C09D 11/00 ,  B41J 2/01 ,  B41M 5/00
FI (3件):
C09D 11/00 ,  B41M 5/00 E ,  B41J 3/04 101 Y
引用特許:
審査官引用 (8件)
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