マルチビーム光走査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002334
公開番号（公開出願番号）：特開平10-054950
出願日： 1997年01月09日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【課題】マルチビーム光走査装置において、被走査面上に形状良好な光スポットを実現し、ピッチ偏差による記録画像の像質低下を有効に軽減する。【解決手段】複数のLD発光部1a,1bを副走査対応方向に配列したモノリシックなマルチビーム用光源1からの複数の光束をコリメートレンズ2でコリメートし、第1結像系3により副走査対応方向に集束させて主走査対応方向に長い複数の線像として結像させ、線像の結像位置近傍に偏向反射面4を有する光偏向器により偏向させ、第2結像系50,6により、被走査面上に互いに副走査方向に離れた複数の光スポットとして集光させて光走査を行なうマルチビーム光走査装置において、マルチビーム用光源1と被走査面との間にある光学系の合成系における副走査対応方向の横倍率:βが条件:2<β≦8.5を満足し、被走査面上における複数の光スポットが互いに隣接する走査線を光走査する。

請求項（抜粋）：

複数のLD発光部もしくはLED発光部を、副走査対応方向に配列したモノリシックなマルチビーム用光源と、このマルチビーム用光源からの複数の光束を共にコリメートするコリメートレンズと、このコリメートレンズによりコリメートされた複数の光束を副走査対応方向に集束させて、主走査対応方向に長い複数の線像として結像させる第1結像系と、上記複数の線像の結像位置近傍に偏向反射面を有し、上記複数の光束を偏向させる光偏向器と、この光偏向器により偏向された複数の光束を、被走査面上に、互いに副走査方向に離れ、光束の偏向に伴い上記被走査面を光走査する複数の光スポットとして集光させる第2結像系と、を有し、上記第2結像系が、被走査面側に配備される長尺レンズを含み、上記マルチビーム用光源と被走査面との間にある光学系の合成系における副走査対応方向の横倍率:βが、条件:(1) 2<β≦8.5を満足し、被走査面上における複数の光スポットが互いに隣接する走査線を光走査することを特徴とするマルチビーム光走査装置。

IPC (5件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , G02B 13/18 , G02B 13/24 , H04N 1/113

FI (6件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 D , G02B 13/18 , G02B 13/24 , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

スポット位置制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-353078 出願人：ゼロックスコーポレイション
プリンタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-027547 出願人：ソニー株式会社

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