パターン検査方法及び装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-207213
公開番号（公開出願番号）：特開2003-021605
出願日： 2001年07月09日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】パターン検査装置ではステージ走査を繰返して画像を取得し、検出した順に検出画像を記憶しておいた同一のパターンが期待できる場所同士の画像を比較して異なる場所を欠陥候補とし、2回欠陥候補となった場所を真の欠陥とする。異なるステージ走査で得られた画像の比較、又は1回しか検査できない場所が発生し、それぞれ各種誤差欠陥検出性能低下、又は検査不可能領域となる。【解決手段】高感度な条件で検出した欠陥を欠陥候補と考え、欠陥候補部の限界しきい値(しきい値がこの値以下の場合に欠陥と判定される値)を画像回路、又は欠陥候補部の画像をソフトウェアで処理することで得る。得られた限界しきい値を複数のしきい値と比較することで複数の検査結果を1回の検査から得る。

請求項（抜粋）：

対象物基板に光又は荷電粒子を照射し、発生する光、二次電子、反射電子、透過電子、吸収電子の何れかを検出、A/D変換することでディジタル画像を得、得られたディジタル画像を同一のパターンであることが期待できるディジタル画像とを複数の検査方法で比較、又は複数のしきい値処理で得られる結果情報を得る事を特徴とするパターン検査方法。

IPC (6件)：

G01N 21/956 , G01N 23/00 , G06T 1/00 305 , G06T 7/00 300 , H01J 37/22 502 , H01L 21/66

FI (7件)：

G01N 21/956 , G01N 23/00 , G06T 1/00 305 A , G06T 7/00 300 F , H01J 37/22 502 H , H01L 21/66 A , H01L 21/66 J

Fターム (59件)：

2G001AA03 , 2G001AA07 , 2G001BA07 , 2G001BA11 , 2G001BA15 , 2G001CA03 , 2G001DA06 , 2G001DA09 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA04 , 2G001GA05 , 2G001GA06 , 2G001GA07 , 2G001GA09 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA07 , 2G001JA16 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 2G001QA02 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BB11 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051DA06 , 2G051EA11 , 2G051EA14 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DA15 , 4M106DB05 , 4M106DB21 , 4M106DJ11 , 4M106DJ14 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DC04 , 5B057DC32 , 5B057DC36 , 5L096BA03 , 5L096CA02 , 5L096FA41 , 5L096FA59 , 5L096HA07 , 5L096JA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

欠陥の詳細検査方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-369132 出願人：株式会社日立製作所
パターン欠陥検出方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-012827 出願人：株式会社日立製作所
パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188558 出願人：株式会社日立製作所

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