特許
J-GLOBAL ID：200903024487498825
不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
三好 秀和
, 三好 保男
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 中村 友之
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-076411
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288743
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】ウェーハ毎に発生した不良の分布を、ウェーハ単位に自動分類する不良解析方法を提供する。【解決手段】複数のウェーハの不良の発生位置を入力する。ウェーハに複数の領域区分を設定する。領域区分毎にウェーハにおける不良の分布を少なくとも1種類以上の数値で表す特徴量を計算する。特徴量に関してウェーハ間の類似の度合いを第1数値で表す。ウェーハの一枚毎に対して第1数値が予め設定された第1閾値以上になる他のウェーハを抽出し、不良の分布が類似するウェーハの類似ウェーハ群を形成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
複数のウェーハの不良の発生位置を入力することと、
前記ウェーハに複数の領域区分を設定することと、
前記領域区分毎に、前記ウェーハにおける前記不良の分布を少なくとも1種類以上の数値で表す特徴量を計算することと、
前記特徴量に関して、前記ウェーハ間の類似の度合いを第1数値で表すことと、
前記ウェーハの一枚毎に対して、前記第1数値が予め設定された第1閾値以上になる他の前記ウェーハを抽出し、前記不良の分布が類似する前記ウェーハの類似ウェーハ群を形成することを有することを特徴とする不良解析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4M106AA01
, 4M106BA01
, 4M106DA15
