特許
J-GLOBAL ID：200903024498775324

残存活性酸化水素の除去方法

発明者：
竹内 誠

竹内 誠 について


出願人/特許権者：
日本電子株式会社

日本電子株式会社 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-171522
公開番号（公開出願番号）：特開2002-362912
出願日： 2001年06月06日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、炭素材中に存在する活性酸化水素(例えば、COOH、CHO、OHなどのような含ヘテロ元素官能基として存在している)を、比較的低温で、かつ効率的に除去する方法を提供し、また、電気二重層キャパシタをはじめとする分極性電極に適した炭素活物質を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の炭素材中に存在する残存活性酸化水素の除去方法は、炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物とを混合する工程と、得られた炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物を還元性ガス気流中で熱処理する工程とを含み、好ましくは、さらに、熱処理された炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物から、遷移金属あるいは遷移金属化合物を分離する工程を含むことを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物とを混合する工程と、得られた炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物を還元性ガス気流中で熱処理する工程とを含む、炭素材中に存在する残存活性酸化水素の除去方法。
IPC (6件)：
C01B 31/02 101 ,  C01B 31/12 ,  H01G 9/058 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (6件)：
C01B 31/02 101 B ,  C01B 31/12 ,  H01M 4/02 D ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z ,  H01G 9/00 301 A
Fターム (19件)：
4G046CA04 ,  4G046CB02 ,  4G046CC02 ,  4G046CC08 ,  4G046CC10 ,  5H029AJ01 ,  5H029AL06 ,  5H029AM02 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ28 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ14 ,  5H050AA01 ,  5H050BA17 ,  5H050CB07 ,  5H050GA02 ,  5H050GA27 ,  5H050HA00 ,  5H050HA14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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