マイクロ構造及びナノ構造の複製及び転写

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-537842
公開番号（公開出願番号）：特表2005-539396
出願日： 2003年09月17日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

マスターから基板に微視的パターンを複製する方法が開示され、ここでは、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の1つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。ナノ構造、マイクロデバイス又はその一部の形成を含む付加的な処理工程もまた、転写前に、複製物を用いて行うことができる。次いで、これらの構造もまた、複製物が転写されるときに基板上に転写され、該複製物が溶解されるときには基板に残る。これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。

請求項（抜粋）：

パターン形成方法であって、マスターパターンの複製物を生成する工程、前記複製物をパターン形成されるべき材料を含む基板上に移す工程、前記複製物が前記基板と接触している間に該複製物を破壊する工程、を含む方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 , B81C1/00 , B82B3/00

FI (3件)：

H01L21/30 502D , B81C1/00 , B82B3/00

Fターム (1件)：

5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平2-145326
特開昭63-275053
特開昭63-158168

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審査官引用 (10件)

特開昭63-158168
特開平2-145326
特開昭63-275053

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