特許
J-GLOBAL ID：200903066106233418
ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327186
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147229
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 ナノメートルのスケールのパターンを複製する方法において、そのパターンを大面積の表面に正確に複製する。【解決手段】 印刷ドラム30の表面を離型コーティング31で被覆する。高分子レジスト32の薄層を、離型コーティング31上に施す。ドラム30を、パターン付き成形型33にプレスし、全体に亘り転がして、高分子レジスト32内に厚さコントラストパターン34を形成する。高分子フイルム32のパターン付き層が、ガラス基板35に転写される。異方性イオンエッチングを用いて、高分子フイルム32の薄い部分を除去して、ガラス基板35上に高分子格子構造36を形成する。アルミニウム金属37を、存在する通路38を充填するのに十分な量で付着させる。高分子格子構造36、およびその頂部にあるアルミニウムを除去する。これにより、基板35の表面上に、適切な幅と間隔を有する平行なアルミニウム線39が残される。
請求項（抜粋）：
ナノメートルのスケールのパターンを複製する方法であって、該パターンを円筒形ローラの外面に形成し、該パターンを複製すべき表面を提供し、前記ナノメートルのスケールのパターンを前記円筒形ローラから前記表面上に転写して、その表面に該パターンの少なくとも一つの複製を提供する各工程を含むことを特徴とする方法。
引用特許：
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