特許
J-GLOBAL ID:200903024519577013

マイクロスフィアの製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-313577
公開番号(公開出願番号):特開2002-119841
出願日: 2000年10月13日
公開日(公表日): 2002年04月23日
要約:
【要約】【課題】 粒径が均一なマイクロスフィアを大量に製造できる方法と装置を提供する。【解決手段】 ケース1は下半体1aと上半体1bとからなり、下半体1aに形成された凹部2に、順次、シールリング3、ガラス板やプラスチック板などの透明板からなる第1プレート4、環状スペーサ5、シリコン基板などからなる中間プレート6、環状スペーサ7、第2プレート8及びシールリング9を入れ、この上から上半体1bを重ね、ボルトなどで上半体1bを下半体1aに固着することで装置が組み立てられる。
請求項(抜粋):
貫通孔を形成した隔壁を介して分散相と連続相を分離し、分散相に連続相にかかる圧力よりも大きな圧力をかけることで分散相を連続相中にマイクロスフィアとして押し出すようにしたマイクロスフィアの製造方法において、前記貫通孔から連続相中に押し出される分散相の界面に不均一な剪断力を作用せしめてマイクロスフィアとすることを特徴とするマイクロスフィアの製造方法。
IPC (7件):
B01J 2/06 ,  A61J 3/00 311 ,  B01J 2/00 ,  B01J 2/04 ,  B01J 4/00 103 ,  B01J 13/00 ,  B01J 19/00
FI (7件):
B01J 2/06 ,  A61J 3/00 311 A ,  B01J 2/00 A ,  B01J 2/04 ,  B01J 4/00 103 ,  B01J 13/00 A ,  B01J 19/00 N
Fターム (43件):
4G004AA01 ,  4G004EA00 ,  4G065AA01 ,  4G065AA02 ,  4G065AB01X ,  4G065AB22X ,  4G065AB33X ,  4G065BA01 ,  4G065BA03 ,  4G065BB01 ,  4G065BB05 ,  4G065CA03 ,  4G065CA17 ,  4G065DA01 ,  4G065DA02 ,  4G065DA05 ,  4G065DA10 ,  4G065EA10 ,  4G065FA02 ,  4G065GA01 ,  4G068AA01 ,  4G068AB11 ,  4G068AB22 ,  4G068AC16 ,  4G068AD20 ,  4G068AD21 ,  4G075AA14 ,  4G075AA23 ,  4G075AA27 ,  4G075BD05 ,  4G075BD15 ,  4G075BD16 ,  4G075BD17 ,  4G075CA23 ,  4G075DA01 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FA02 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC04 ,  4G075FC17
引用特許:
審査官引用 (1件)

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