高周波誘導加熱装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥山尚一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-025024
公開番号（公開出願番号）：特開2002-226919
出願日： 2001年02月01日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】幅狭な被加熱部分を高周波誘導加熱する場合に、半開放鞍型又は半開放ヘアピン型の高周波誘導加熱コイルを支持する一対の側板に窪み部等を設けなくてもこれらの側板に過熱を生じるのを防止でき、効率良く高周波誘導加熱を行なうことができるような高周波誘導加熱装置を提供する。【解決手段】一対の側板7a,7b間に配置される半開放鞍型高周波誘導加熱コイル3の接続導体5a,5b及び給電用リード導体6a,6bを磁性部材(例えば珪素鋼板41,42)によって磁気遮蔽する。

請求項（抜粋）：

(a) 回転駆動される被加熱部の円筒状周面に対応して配置される半開放鞍型高周波誘導加熱コイルと、(b) 前記半開放鞍型高周波誘導加熱コイルを構成する加熱コイル部分を互いに直列に接続する接続導体と、(c) 前記接続導体に接続され、かつ、前記半開放鞍型高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給する給電用リード導体と、(d) 前記半開放鞍型高周波誘導加熱コイルを両側から挟み込んだ状態で支持するコイル支持用の一対の側板であって、かつ、前記接続導体並びに給電用リード導体の両側部に配置される一対の側板と、をそれぞれ有する高周波誘導加熱装置において、前記接続導体及び給電用リード導体を磁性部材によって磁気遮蔽したことを特徴とする高周波誘導加熱装置。

IPC (4件)：

C21D 9/30 , C21D 1/10 , H05B 6/10 331 , H05B 6/36

FI (5件)：

C21D 9/30 B , C21D 1/10 G , C21D 1/10 K , H05B 6/10 331 , H05B 6/36 F

Fターム (11件)：

3K059AA09 , 3K059AB09 , 3K059AB28 , 3K059AD03 , 3K059CD52 , 3K059CD72 , 4K042AA16 , 4K042BA13 , 4K042DB01 , 4K042DF02 , 4K042EA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

高周波加熱コイル体
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-040082 出願人：富士電子工業株式会社
特開平2-197517
特開昭62-073592

審査官引用 (3件)

高周波加熱コイル体
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-040082 出願人：富士電子工業株式会社
特開平2-197517
特開昭62-073592

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