特許
J-GLOBAL ID：200903024571800553
紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078893
公開番号（公開出願番号）：特開平9-268228
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：
【要約】【課題】 硬化に伴う重量減少が非常に少なく、低い強度の紫外線による硬化が可能で、かつ耐熱性を有する硬化物を与える紫外線硬化性組成物、及びこれを利用したパターン形成方法を提供する。【解決手段】 紫外線の作用により塩基を発生する塩基発生物質であるN-置換4-(o-ニトロフェニル)ジヒドロピリジン類と、この塩基の作用で水酸基と反応してケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2 )を形成しうるケイ素水素結合(Si-H)を有するシリコーン重合体分子とを含む硬化性組成物。この組成物に紫外線を照射して硬化させる。この紫外線照射時に上記組成物の被膜と紫外線源の間にマスクを置き、未硬化の組成物を溶解除去してパターン形成をする。
請求項（抜粋）：
(イ)紫外線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、(ロ)この塩基の作用で水酸基(OH)と反応しケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2 )を形成しうるケイ素水素結合(Si-H)を有する重合体分子とを含む硬化性組成物であって、(イ)の塩基発生物質がN-置換4-(o-ニトロフェニル)ジヒドロピリジン類から選ばれたものであり、これが前記硬化性組成物の全重量に対し、0.01〜20%の範囲で含まれ、(ロ)の重合体分子の平均組成が下記の一般式(1)で示される、前記硬化性組成物。(R2 SiO2/2)a ( RSiO3/2)b (1)(式中、R2 SiO2/2 及びRSiO3/2 中のRはそれぞれ独立に水素原子並びに炭素数1〜8の炭化水素基およびその誘導体から選ばれるモノラジカルである。ただしR2 SiO2/2 のうちRの一方または両方が水素原子であるものとRSiO3/2 のうちRが水素原子であるものの和がa+bの5%以上含まれる。R2 SiO2/2 及びRSiO3/2 のケイ素原子に結合している2価の酸素原子のうちそれぞれ少なくとも1つは、他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成しているが、残りの酸素原子は他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成していても、メチル基あるいはエチル基に結合してアルコキシ基を形成しても、水素に結合してシラノール基を形成してもよい。一般式(1)においては、0≦a≦1,0≦b≦1,a+b=1である。)
IPC (3件)：
C08G 77/12 NUG
, C08G 77/16 NUB
, C08L 83/05 LRS
C08G 77/12 NUG
, C08G 77/16 NUB
, C08L 83/05 LRS
