特許

J-GLOBAL ID：200903024657432409

光走査装置の製造方法及び光走査装置

発明者： 西川 恭生
出願人/特許権者： ブラザー工業株式会社
代理人 (1件)： 松尾 憲一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-256849
公開番号（公開出願番号）：特開2009-086370
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：

【課題】光走査装置に使用される圧電素子に水分が浸入して、電極が劣化することを防止する保護層を、製造工程を増加させないで形成する。【解決手段】揺動可能な反射部1を備える可動部と、可動部を保持する固定部5と、可動部の一部と固定部5の一部に跨って設置される圧電素子7と、固定部5が設置される筐体9とを備える光走査装置25の製造方法において、圧電素子7に保護層17を形成する保護層形成工程と、固定部5を筐体9に接着する接着工程とを同時に行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

揺動可能な反射部を備える可動部と、前記可動部を保持する固定部と、前記可動部の一部と前記固定部の一部に跨って設置される圧電素子と、前記固定部が設置される筐体とを備える光走査装置の製造方法において、 前記圧電素子に保護層を形成する保護層形成工程と、前記固定部を前記筐体に接着する接着工程とを同時に行うことを特徴とする光走査装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  G02B 26/08 ,  B81B 3/00 ,  B81C 3/00

FI (4件)：

G02B26/10 104Z ,  G02B26/08 E ,  B81B3/00 ,  B81C3/00

Fターム (26件)：

2H045AB72 ,  2H045AB81 ,  2H141MA12 ,  2H141MB24 ,  2H141MC09 ,  2H141MD12 ,  2H141MF02 ,  2H141MF04 ,  2H141MF24 ,  2H141MF26 ,  2H141MF30 ,  2H141MZ06 ,  2H141MZ16 ,  2H141MZ22 ,  3C081AA11 ,  3C081AA19 ,  3C081BA28 ,  3C081BA30 ,  3C081BA44 ,  3C081BA47 ,  3C081BA55 ,  3C081CA05 ,  3C081CA31 ,  3C081CA32 ,  3C081DA22 ,  3C081EA08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光スキャナおよびそれを備えた画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-419013   出願人：ブラザー工業株式会社