特許
J-GLOBAL ID：200903024658408714

光触媒式有害ガス除去装置

発明者：
天野 功

天野 功 について

, 
西方 聡

西方 聡 について

, 
西村 智明

西村 智明 について


出願人/特許権者：
富士電機株式会社

富士電機株式会社 について


代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116597
公開番号（公開出願番号）：特開平10-305213
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】【課題】光触媒式有害ガス除去装置に対し、定期的に行う光触媒層の洗浄にかかるランニングコストの低減,光触媒層の長寿命化を図るように改良する。【解決手段】被処理空気を流す反応器1の内壁面に成層した光触媒層2に紫外線ランプ3により近紫外光を照射し、被処理空気中の有害ガス成分を酸化して触媒層に捕捉させるようにしたものにおいて、反応器の入口側から出口側に至る被処理空気の通流方向に沿った光触媒層の有害ガス除去速度係数を、触媒層全域で有害ガス成分の捕捉量が平均化されるように調整するものとし、その調整手段として、光触媒層に照射する紫外光の強度を反応器の入口側領域で弱く、出口側領域に向けて漸次増強するように、具体的には紫外線ランプの配列ピッチを、反応器の入口側領域では大きく、出口側領域に向けて漸次小さくなるように設定する。
請求項（抜粋）：
二酸化チタンの光触媒作用により空気中から窒素酸化物,硫黄酸化物などの有害ガス成分を除去する有害ガス除去装置であり、被処理空気を流すダクト状の反応器の内壁面に二酸化チタン,または二酸化チタンと吸着剤の混合物を主成分とする光触媒層を成層し、この光触媒層に近紫外光を照射することにより生じる酸化反応で、被処理空気に含まれている有害ガス成分を酸化して触媒層に捕捉させるようにしたものにおいて、反応器の入口側から出口側に至る被処理空気の通流方向に沿った光触媒層の有害ガス除去速度係数を、触媒層全域で有害ガス成分の捕捉量が平均化されるように調整したことを特徴とする光触媒式有害ガス除去装置。
IPC (5件)：
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02
FI (5件)：
B01D 53/36 ZAB J ,  B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 102 C
引用特許：
審査官引用 (4件)
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