特許
J-GLOBAL ID：200903024679865082
セルフパターニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-196231
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043834
出願日： 1995年08月01日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】 透明基板の一面側に形成したレンズ部とのズレがなくしかも正確に1対1で対応したパターンの膜を透明基板の他面側に形成する。【解決手段】 一面側に二次元状に複数のレンズ部r...が配列された透明基板1を用意し、この透明基板1の他面側にフォトレジスト膜2を形成し、次いで、透明基板1の一面側からレンズ部rを介して前記フォトレジスト膜2に露光を施し、この後、現像して前記フォトレジスト膜のうちの露光部分2aを残して非露光部分を除去し、次いで、透明基板の他面側に遮光膜3を形成し、更に前記残されたフォトレジスト膜の露光部分2aを除去することでレンズ部rに対応する部分の遮光膜を除去して開口3aを形成する。
請求項（抜粋）：
一面側にライン状或いはマトリクス状等の二次元状に複数のレンズ部が配列された透明基板の他面側にフォトレジスト膜を形成し、次いで、透明基板の一面側からレンズ部を介して前記フォトレジスト膜に露光を施し、この後、現像して前記フォトレジスト膜のうちの露光部分を残して非露光部分を除去し、次いで、透明基板の他面側に遮光膜や透明導電膜等の薄膜を形成し、更に前記残されたフォトレジスト膜の露光部分を除去することでレンズ部に対応する部分の前記薄膜を除去して開口を形成するようにしたことを特徴とするセルフパターニング方法。
IPC (6件)：
G03F 7/00
, G02B 5/00
, G02F 1/1335
, G03F 9/00
, G02B 3/00
, G02B 5/20 101
G03F 7/00
, G02B 5/00 B
, G02F 1/1335
, G03F 9/00 Z
, G02B 3/00 B
, G02B 5/20 101
