特許
J-GLOBAL ID:200903024769852451

ジヒドロアントラセン誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 黒田 薫 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-196118
公開番号(公開出願番号):特開2002-012563
出願日: 2000年06月29日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】 9,10-ジヒドロアントラセンの中央の環に任意の置換基が導入されたジヒドロアントラセン誘導体を得ること。【解決手段】 下記式(II)で示されるジヒドロアントラセンを用いて、下記式(I)で示されるジヒドロアントラセン誘導体、又は、下記式(IV)で示されるジヒドロアントラセン誘導体を製造する。【化1】(式中、R1〜R8は、それぞれ互いに独立し、同一又は異なって、炭化水素基等であり、Aは炭化水素基等、Xは脱離基である。)
請求項(抜粋):
下記式(I)で示されるジヒドロアントラセン誘導体の製造方法であって、【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、置換基を有していてもよいC1〜C40炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C40アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C40アリールオキシ基;アミノ基;水酸基又はシリル基であり、Aは、置換基を有していてもよいC1〜C40炭化水素基である。)下記式(II)で示されるジヒドロアントラセンと、【化2】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、上記の意味を有する。)リチウム試薬と、リチウム配位子とを所定温度未満で反応させ、反応混合物を得る工程と、前記反応混合物と、下記式(III)で示される求電子試薬とA-X (III)(式中、Aは、上記の意味を有する。Xは、脱離基である。)を反応させる工程とを含むことを特徴とするジヒドロアントラセン誘導体の製造方法。
IPC (5件):
C07C 1/30 ,  C07C 1/28 ,  C07C 13/58 ,  C07C 13/64 ,  C07C 29/44
FI (5件):
C07C 1/30 ,  C07C 1/28 ,  C07C 13/58 ,  C07C 13/64 ,  C07C 29/44
Fターム (17件):
4H006AA02 ,  4H006AC24 ,  4H006AC28 ,  4H006BA02 ,  4H006BA03 ,  4H006BA44 ,  4H006BA46 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB20 ,  4H006BB22 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC31 ,  4H006BC34
引用特許:
審査官引用 (5件)
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