特許
J-GLOBAL ID：200903024775737010

研磨基布およびその製造方法

発明者：
田中 学

田中 学 について


出願人/特許権者：
帝人株式会社

帝人株式会社 について


代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-372468
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170348
出願日： 2001年12月06日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】【課題】 磁気記録媒体等の表面にテクスチャー加工等の精密研磨を行う際に、研磨条件の変動で基板表面に深い溝(スクラッチ)を生じない均一に研磨できる研磨基布を提供すること。【解決手段】 繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である立毛を有する基布であって、繊維質基材を構成する繊維が平均直径0.05〜2μmの極細繊維であり、該極細繊維が20本以上収束して繊維束を構成しており、該繊維束からなる立毛の平均立毛長さが50〜1000μm、平均立毛本数が5〜30本/mm2であり、かつ基布中のけい素の含有量が300ppm以下であることを特徴とする研磨基布。また本発明の研磨基布の製造方法は、基布にポリアルキレンオキサイド溶液または流動パラフィン乳化分散体を付与し、次いで起毛することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である立毛を有する基布であって、繊維質基材を構成する繊維が平均直径0.05〜2μmの極細繊維であり、該極細繊維が20本以上収束して繊維束を構成しており、該繊維束からなる立毛の平均立毛長さが50〜1000μm、平均立毛本数が5〜30本/mm2であり、かつ基布中のけい素の含有量が300ppm以下であることを特徴とする研磨基布。
IPC (6件)：
B24B 37/00 ,  D04H 1/42 ,  D06M 13/02 ,  D06M 15/53 ,  D06M 15/564 ,  G11B 5/84
FI (6件)：
B24B 37/00 C ,  D04H 1/42 X ,  D06M 13/02 ,  D06M 15/53 ,  D06M 15/564 ,  G11B 5/84 A
Fターム (21件)：
3C058AA06 ,  3C058AA09 ,  3C058CB02 ,  3C058DA17 ,  4L033AA08 ,  4L033AB07 ,  4L033BA01 ,  4L033BA99 ,  4L033CA50 ,  4L047AA23 ,  4L047AA27 ,  4L047AA29 ,  4L047AB02 ,  4L047AB08 ,  4L047BA16 ,  4L047BC12 ,  4L047CA08 ,  4L047CC14 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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