特許
J-GLOBAL ID：200903024792453734
微粉末ケイ素又はケイ素化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-194871
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029410
出願日： 2003年07月10日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：
【解決手段】ケイ素又はケイ素化合物粉末を後段に気流式分級機が接続されたジェットミルに供給し、上記ケイ素又はケイ素化合物粉末を露点が-20°C以下の乾燥空気若しくは不活性ガス雰囲気中においてジェットミルにて解砕した後、上記分級機にて分級して、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積粒径を微粒側から累積10%、累積50%、累積90%に相当する粒子径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、D50が0.1〜30μmの範囲内であり、かつD90/D10が3以下であるシャープな粒度分布を持つ微粉末ケイ素又はケイ素化合物を採取することを特徴とする微粉末ケイ素又はケイ素化合物の製造方法。【効果】本発明によれば、コンタミネーションが少なく、凝集粒子が少なく、粒度分布の狭い、シャープな粒度分布を有する微粉末ケイ素又はケイ素化合物を製造することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ケイ素又はケイ素化合物粉末を後段に気流式分級機が接続されたジェットミルに供給し、上記ケイ素又はケイ素化合物粉末を露点が-20°C以下の乾燥空気若しくは不活性ガス雰囲気中においてジェットミルにて解砕した後、上記分級機にて分級して、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積粒径を微粒側から累積10%、累積50%、累積90%に相当する粒子径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、D50が0.1〜30μmの範囲内であり、かつD90/D10が3以下であるシャープな粒度分布を持つ微粉末ケイ素又はケイ素化合物を採取することを特徴とする微粉末ケイ素又はケイ素化合物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
4G072AA01
, 4G072AA50
, 4G072HH01
, 4G072HH50
, 4G072MM26
, 4G072MM28
, 4G072TT01
, 4G072TT02
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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