投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303297
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114163
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】基板(ウエハ)面上の軸上光束のテレセントリック性を適切に保ち、高い解像力が容易に得られるようにした投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】光源と、該光源からの光束を集光する集光光学系と、該集光光学系からの光束を混合して射出する光束混合手段と、該光束混合手段からの出射光束を用いて多数の部分光束を発生させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段と、被照射面に配置した物体面上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、該光束混合手段と多光束発生手段との間にテレセン調整手段を設けて、該多光束発生手段の入射面上の光量分布を変位させて該基板上でのテレセントリック性を調整していること。

請求項（抜粋）：

光源と、該光源からの光束を集光する集光光学系と、該集光光学系からの光束を混合して射出する光束混合手段と、該光束混合手段からの出射光束を用いて多数の部分光束を発生させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段と、被照射面に配置した物体面上のパターンを基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、該光束混合手段と多光束発生手段との間にテレセン調整手段を設けて、該多光束発生手段の入射面上の光量分布を変位させて該基板上でのテレセントリック性を調整していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA05 , 5F046CB01 , 5F046CB10 , 5F046CB12 , 5F046CB13 , 5F046CB19 , 5F046CB23 , 5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (5件)

特公平7-085140
照明光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-355200 出願人：株式会社ニコン
特開昭64-000913

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