放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-036451
公開番号（公開出願番号）：特開2004-245713
出願日： 2003年02月14日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：

【課題】コントラストが高く、且つ高輝度低残光性を示す放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。【解決手段】支持体上に、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の少なくとも1層が、気相法(気相堆積法ともいう)により50μm以上の膜厚を有するように形成され、且つ、該層中の輝尽性蛍光体の結晶子サイズが90nm以上であることを特徴とする放射線画像変換パネル。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

支持体上に、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の少なくとも1層が、気相法(気相堆積法ともいう)により50μm以上の膜厚を有するように形成され、且つ、該層中の輝尽性蛍光体の結晶子サイズが90nm以上であることを特徴とする放射線画像変換パネル。

IPC (8件)：

G21K4/00 , C09K11/00 , C09K11/08 , C09K11/61 , C09K11/85 , C23C14/06 , G01T1/00 , G03B42/02

FI (8件)：

G21K4/00 M , C09K11/00 B , C09K11/08 A , C09K11/61 , C09K11/85 , C23C14/06 G , G01T1/00 B , G03B42/02 A

Fターム (34件)：

2G083AA03 , 2G083BB01 , 2G083CC02 , 2G083DD02 , 2G083DD11 , 2G083EE02 , 2G083EE03 , 2G083EE04 , 2H013AC04 , 4H001CA04 , 4H001CA08 , 4H001CF01 , 4H001XA00 , 4H001XA03 , 4H001XA06 , 4H001XA11 , 4H001XA17 , 4H001XA19 , 4H001XA35 , 4H001XA37 , 4H001XA39 , 4H001XA53 , 4H001XA55 , 4H001YA00 , 4H001YA39 , 4H001YA49 , 4H001YA63 , 4H001YA65 , 4K029AA09 , 4K029BA41 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029DB05 , 4K029DB18

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平3-234790
特開平4-141909
放射線像変換パネルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-229593 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (8件)

放射線像変換パネルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-229593 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開平3-234790
特開平4-141909

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