特許
J-GLOBAL ID：200903024859819518
狭分散性重合体を用いたポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-163874
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352695
出願日： 1998年06月11日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：
【要約】【課題】 ある種の方法により製造された分子量分布の狭い樹脂を用いて、解像度に優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキル又は全炭素原子数1〜12のアルカノイルを表す)で示されるスチレン誘導体をフリーラジカル開始剤及び安定フリーラジカル作用剤の存在下、リビング的にラジカル重合して得られた狭分散性ポリスチレン類の-Rに相当する基の少なくとも一部を脱離させて、それに相当する-O-Rの部分を水酸基とした後、酸に不安定な基で該水酸基を部分的に保護してなり、それ自身ではアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂(A)、及び酸発生剤(B)を、有機溶剤(C)に溶解してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下式(I)(式中、Rは炭素原子数1〜12のアルキル又は全炭素原子数1〜12のアルカノイルを表す)で示されるスチレン誘導体をフリーラジカル開始剤及び安定フリーラジカル作用剤の存在下、リビング的にラジカル重合して得られた狭分散性ポリスチレン類の-Rに相当する基の少なくとも一部を脱離させて、それに相当する-O-Rの部分を水酸基とした後、酸に不安定な基で該水酸基を部分的に保護してなり、それ自身ではアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂、(B)酸発生剤、及び(C)これらを溶解する有機溶剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
