ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：古溝聡 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087403
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281729
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ArFエキシマレーザ光等の220nm以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性(微細なパターンが基板から剥がれにくい)を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。【解決手段】下記式(1)に示す繰り返し単位を有するジオール構造を含有してなる重合体と、下記式(7)に示す官能基を含む化合物からなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。[式(1)中、R1は水素原子又はメチル基、R2は炭素数2から6のアルキレン基、Xはジオール構造を有する脂環式アルキル基をそれぞれ示す。][式(7)中、R14は水素原子、炭素数1から6のアルキル基又は炭素数3から6のオキソアルキル基を示す。]

請求項（抜粋）：

下記式(1)に示す繰り返し単位を有するジオール構造を含有してなる重合体。【化1】[式(1)中、R1は水素原子又はメチル基、R2は炭素数2から6のアルキレン基、Xはジオール構造を有する脂環式アルキル基をそれぞれ示す。]

IPC (5件)：

C08F220/26 , C08L 33/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 601

FI (5件)：

C08F220/26 , C08L 33/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/038 601

Fターム (39件)：

2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 4J002BG071 , 4J002EC048 , 4J002EC058 , 4J002EC068 , 4J002ET016 , 4J002EV217 , 4J002EV297 , 4J002EZ007 , 4J002FD146 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J100AL16P , 4J100AL16Q , 4J100BA03P , 4J100BA16Q , 4J100BC08P , 4J100BC08Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12P , 4J100BC12Q , 4J100BC27Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100HA53 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

不飽和(メタ)アクリレートの選択的エポキシ化方法、得られた新規な官能性(メタ)アクリレート、及び新規なポリマーの合成におけるその使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-190924 出願人：エルフ・アトケム・エス・アー

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