特許
J-GLOBAL ID：200903024897810079
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-159242
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005691
出願日： 1995年06月26日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【目的】 高温の薬液や精密な温度調節が必要な薬液、また、高濃度の薬液を用いる処理を行ってもスループットの低下を防止するとともに、省スペースで良好な洗浄を達成すること。【構成】 基板WFに薬液処理を施す少なくとも1つの薬液槽CBと、薬液槽CBで処理を施された基板WFに薬液処理、水洗処理、及び乾燥処理の内少なくとも2つを施す多機能槽OBとを備える。このため、高温状態で使用する薬液や精密な温度調節が必要な薬液、高濃度の状態で使用する薬液を用いる処理では薬液槽CBを用い、その他の薬液を用いる処理では多機能槽OBを用いることができるので、スループットの低下を防止できるとともに、省スペースで良好な洗浄を達成できる。
請求項（抜粋）：
基板に所定の薬液処理を施す少なくとも1つの薬液専用処理槽と、前記薬液専用処理槽にて薬液処理を施された基板に薬液処理、水洗処理及び乾燥処理のうちの少なくとも2つを施す多機能処理槽とを備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
G02F 1/13 101
, B01J 19/00
, H01L 21/027
, H01L 21/306
G02F 1/13 101
, B01J 19/00 K
, H01L 21/30 572 B
, H01L 21/306 J
