特許
J-GLOBAL ID：200903024940744220
磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-274760
公開番号（公開出願番号）：特開2003-085714
出願日： 2001年09月11日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：
【要約】【課題】 磁気ヘッドにおける素子及びスライダの保護膜として、膜形成面に対して密着性に優れ、且つより薄い膜厚で十分な耐腐食特性を示すDLC膜の形成方法を提供する。【解決手段】 磁気ヘッドコアの素子部端部及びスライダの一面に保護膜としてDLC膜を用いることとし、放電を用いてDLC膜を形成する際に成膜工程を複数回行って所定のDLC膜の膜厚とすることとした。
請求項（抜粋）：
基板の一面上に絶縁層、導電層、及び磁性層を積層し且つ各層を所定形状に加工することで記録素子及び再生素子の少なくとも一方を有する素子部を形成する工程と、前記基板における磁気記録媒体と対向する所定面の少なくとも一部及び前記素子部における前記磁気記録媒体と対向する部分に保護膜を形成する工程とを含む磁気ヘッドの製造方法であって、前記保護膜を形成する工程においては、所定膜厚の前記保護膜を形成する際に、前記保護膜が複数の層に分けて形成されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/39
, G11B 5/31
, G11B 5/60
G11B 5/39
, G11B 5/31 D
, G11B 5/60 C
5D033BA11
, 5D033BA15
, 5D033CA06
, 5D033DA03
, 5D033DA31
, 5D034BA17
, 5D034BA19
, 5D034DA07
, 5D042NA02
, 5D042PA09
, 5D042QA03
, 5D042RA02
, 5D042SA02
