特許

J-GLOBAL ID：200903024953058458

放電プラズマ処理装置

発明者： 内田 岱二郎
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-052419
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263190
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ処理装置において、磁気中性線放電によりプラズマを生成すること及びそのプラズマの特性及び生成位置を電気的に任意に調整可能にすること。【構成】 少なくとも二つの電磁コイルまたは直線状電流棒から成る磁場発生手段または同等の効果をもつ磁石より成る磁場発生手段により発生された連続した磁場ゼロの位置から成る磁気中性線に沿って帯状または網帯状の金属製の高周波コイルにより放電を起させ、プラズマを発生する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置である磁気中性線を形成するようにした磁場発生手段と、この磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成された磁気中性線に沿って電場を形成してこの磁気中性線に放電プラズマを発生させる電場発生手段とを設け、電場発生手段が、磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成される磁気中性線の軸方向移動範囲の幅をもつ帯状または網帯状の金属製コイルから成ることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-180557
  
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-064989   出願人：日本電信電話株式会社, 国際電気株式会社
• 特開平4-180557