特許
J-GLOBAL ID：200903025015070470
高減衰材料組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上野 登
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-362125
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172122
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】高分子鎖間の相互作用を制御することにより、高いtanδを発現することができる高減衰材料組成物を提供すること。【解決手段】ベースポリマーである塩素化ポリエチレン100重量%に減衰性添加剤としてスルフェンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系、顔料、ピリジン系添加剤、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、ウレタン触媒、ヒンダードアミン系添加剤あるいはイソシアヌル酸誘導物のうちいずれかをそれぞれ100重量%ずつ配合して、所定の加工成形処理を施す。得られる高減衰材料組成物は、ベースポリマーの鎖状分子間に働く分子間ポテンシャルを均一化させ、高いtanδを安定して発現することができる。
請求項（抜粋）：
極性側鎖を有するベースポリマーに、第2級アミン、第3級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を1分子中に2個以上含む塩基性物質を1種又は2種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物。
IPC (5件)：
C08L101/00
, C08K 5/17
, C08K 5/34
, C08K 5/36
, F16F 7/00
C08L101/00
, C08K 5/17
, C08K 5/34
, C08K 5/36
, F16F 7/00 B
