特許

J-GLOBAL ID：200903025018509898

基板処理装置

発明者： 森田 彰彦 ,  西村 讓一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-216533
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067624
出願日： 1997年08月11日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】 処理具が取付けられた保持アームの待機スペースの縮小化を図ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 保持アーム7の基端部の揺動軸7aを介して保持アーム7を揺動可能に支持するアーム支持部材9を、エアシリンダ8によって上昇させる。この上昇に伴って、保持アーム7の基端部に設けられたカムホロア7bが、カム溝13aに沿って案内されることにより、保持アーム7が待機時の起立姿勢から処理時の横臥姿勢へと上昇しつつ揺動変位する。基板に対して処理を行わない時には、保持アーム7を起立姿勢で待機させているので、保持アーム7の待機スペースを縮小することができる。

請求項（抜粋）：

所定の基板処理領域にある基板に対して処理を行う基板処理装置において、基板に対して処理を行う処理具を先端部に保持した保持アームと、基板に対して処理を行わないときに、前記保持アームを基板処理領域から外れた待機位置にほぼ起立姿勢で待機させる一方、基板に対して処理を行うときに、処理具が基板に対する処理位置に来るように、前記保持アームをほぼ横臥姿勢に変位させるアーム駆動手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06

FI (6件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 B ,  H05K 3/00 L ,  H05K 3/06 E

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板エッジ洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290810   出願人：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社

審査官引用 (1件)

• 基板エッジ洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290810   出願人：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社