特許

J-GLOBAL ID：200903025036756550

格子パターンの露光方法

発明者： 徳島 正敏
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 勝 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-317698
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150340
出願日： 1998年11月09日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 微細な格子点寸法を有するフォトレジスト格子パターンを高速で容易に形成する。【解決手段】 光学露光装置を用いて、 L/Sパタ-ンにより第1の露光を行い、これと90°傾けたL/Sパタ-ンにより第2の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン9を露光する。多重露光部10の現像液への高い溶解特性、または非感光部13の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。

請求項（抜粋）：

光学露光装置を用いてフォトレジストに格子パターンを露光する露光方法において、異なるパターンの少なくとも2回以上の多重露光によって格子パターンをパターニングすることを特徴とする格子パターンの露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (2件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/22 H

Fターム (6件)：

5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-232318
  
• 縮小投影露光方法および縮小投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-281714   出願人：富士通株式会社