写像型観察方法及び写像型荷電粒子線顕微鏡

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-235108
公開番号（公開出願番号）：特開2000-067798
出願日： 1998年08月21日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】観察視野内の電子ビームの強度分布、及び電子検出系の検出感度分布のばらつきの影響を軽減して試料をより正確に観察する。【解決手段】試料8を観察するための照明条件、及び結像条件を設定する。その条件下で、均一な表面形状を有する基準試料8AをXYステージ9上に載置して所定の領域の像を電子検出系21等を介して撮像し、これによって得られる画像信号を基準画像信号として記憶部18Aに記憶する。試料8をXYステージ9上に載置して視野28内の像を撮像し、これによって得られる画像信号を試料画像信号として画像信号演算部19に出力する。試料画像信号を基準画像信号で除算して、試料画像信号に対する電子ビームの強度分布等の影響を補正する。補正後の試料画像信号を例えば所定の閾値レベルで2値化して出力装置20に出力する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を試料上の少なくとも一次元方向に広がった視野に照射する照射系と、前記荷電粒子線の照射により前記試料から発生する荷電粒子線を集束して前記視野内の前記試料の像を形成する結像系と、該結像系によって形成される像を画像信号に変換する検出系と、を用いて試料を観察する写像型観察方法であって、前記照射系の照明条件、及び前記結像系の結像条件を所定の条件に設定する第1のステップと、該設定された条件のもとで、前記照射系を介して均一な表面形状を有する基準試料を照射して、前記結像系及び前記検出系を介して前記視野内の前記基準試料の像を変換して得られる画像信号より基準画像信号を生成して記憶する第2のステップと、前記所定の条件のもとで前記照射系、前記結像系及び前記検出系を介して観察対象の試料の像を試料画像信号に変換し、該変換された試料画像信号をリアルタイムで、又は所定期間記憶した後に、前記基準画像信号と演算して得られる信号に基づいて前記試料を観察する第3のステップと、を有することを特徴とする写像型観察方法。

IPC (2件)：

H01J 37/29 , H01J 37/22 501

FI (2件)：

H01J 37/29 , H01J 37/22 501 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

パターン検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-001181 出願人：株式会社ニコン
特開平2-061953
特開昭57-082956

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