化学気相法による成膜装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-023533
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216031
出願日： 1993年01月20日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】各種の膜を、大面積で、不純物を混入させること無く、高品質で、十分な速度で製造できる高性能の化学気相法による成膜装置を提供する。【構成】少なくともプロセスガスを供給する手段と、前記プロセスガスを電離、解離、活性化するための誘電体バリヤ放電装置からなることを特徴とした化学気相法による成膜装置。

請求項（抜粋）：

少なくともプロセスガスを供給する手段と、前記プロセスガスを電離、解離、活性化するための放電装置とからなる、化学気相法によって基板に膜を形成する成膜装置において、前記放電装置が誘電体バリヤ放電装置からなることを特徴とした化学気相法による成膜装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-358076
特開平2-073979
特開平2-073978

全件表示

前のページに戻る