特許
J-GLOBAL ID:200903025092111669
地盤改良工法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
久門 知
, 久門 享
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-072633
公開番号(公開出願番号):特開2008-231769
出願日: 2007年03月20日
公開日(公表日): 2008年10月02日
要約:
【課題】 静置しておけばゲル化するシリカ系注入材を用い、ゲル化後に機械的にゲル化を遅延させてコロイド状シリカを形成して浸透性のあるシリカコロイド注入液を開発し、さらに糖と微生物を加えることで耐久性にすぐれ反応生成物が少ない為、地下水の水質保全に優れた上述の公知技術に存する欠点を改良した広範囲の地盤を改良する方法を提供する。【解決手段】 本発明は機械的にゲル化を遅延して得られたゾル、あるいは、地盤中にゲルを破砕して得られたゾルを注入し、ゲル化することにより地盤を固結させる地盤改良工法に係り、粒径の異なるゾルを使用することにより、大掛かりな装置や有害な薬品を必要とせず、液状化対策工事、構造物基礎下の耐震補強等に適した地盤改良工法に関する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
ゲル化後にゲルを破砕し得られたゾルを地盤中に注入することを特徴とする地盤改良工法。
IPC (8件):
E02D 3/12
, C09K 17/12
, C09K 17/32
, C09K 17/02
, C09K 17/10
, C09K 17/06
, C09K 17/46
, C09K 17/08
FI (8件):
E02D3/12 101
, C09K17/12 P
, C09K17/32 P
, C09K17/02 P
, C09K17/10 P
, C09K17/06 P
, C09K17/46 P
, C09K17/08 P
Fターム (18件):
2D040AA01
, 2D040AA04
, 2D040AB01
, 2D040AC02
, 2D040CA01
, 2D040CA02
, 2D040CA04
, 2D040CA05
, 2D040CB03
, 2D040CC01
, 4H026CA01
, 4H026CA03
, 4H026CA05
, 4H026CB01
, 4H026CB02
, 4H026CB03
, 4H026CB08
, 4H026CC06
引用特許:
出願人引用 (4件)
-
特開平10-3104715号公報
-
特許第3085360号
-
シールド掘進方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-253096
出願人:日産化学工業株式会社, 株式会社銭高組
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