特許
J-GLOBAL ID:200903025130068977
塗布装置および塗布方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
廣幸 正樹
, 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-324311
公開番号(公開出願番号):特開2009-169415
出願日: 2008年12月19日
公開日(公表日): 2009年07月30日
要約:
【課題】装置の小型化及びメンテナンスの容易化を図ることができる塗布装置を提供すること。【解決手段】Sを2以上の整数とし、同じ色のインクを吐出する複数のインクジェットヘッド(51)で構成されたヘッドモジュール(52)を複数個配置してヘッドブロック(50)を構成し、該ヘッドブロック(50)により基板(K)上をスキャン方向(X)にS回スキャンして、該基板(K)にインクを塗布するように構成された塗布装置(1)において、ヘッドモジュール(52)を所定の配列ピッチPでスキャン方向(X)と直交するスキャン直交方向(Y)に1列だけ配置して1色のヘッドブロック(50)を構成し、ヘッドブロック(50)による1回のスキャンが終了する毎に所定量P/Sだけヘッドブロック(50)をスキャン直交方向(Y)にシフトするヘッドブロックシフト手段(45)を備える。【選択図】図4
請求項(抜粋):
複数個のノズルが形成されたヘッドを複数個合わせて構成され、塗布幅Wmを有するヘッドモジュールを配置したインク吐出部が、
インクが塗布される複数個の画素からなる塗布対象物の上方を前記ヘッドモジュールの配置方向であるY軸方向と直交するX軸方向に移動しながら前記ノズルからインクを吐出して塗布を行い、
次に前記インクの吐出を停止して前記Y軸方向に移動する動作を繰り返し行うことで、前記塗布対象物の所定の領域を塗布する塗布方法であって、
前記インク吐出部が前記X軸方向に移動しながら所定の画素にインクを塗布するスキャン塗布工程と、
前記インク吐出部が前記Y軸方向に移動する移動量yは前記ヘッドモジュールの塗布幅Wmより小さい移動を含むスキャン移動工程を有する塗布方法。
IPC (5件):
G02B 5/20
, B05C 5/00
, B05C 11/00
, B05C 11/10
, B05D 1/26
FI (5件):
G02B5/20 101
, B05C5/00 101
, B05C11/00
, B05C11/10
, B05D1/26 Z
Fターム (24件):
2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 4D075AC07
, 4D075AC73
, 4D075AC84
, 4D075AC88
, 4D075AC93
, 4D075DA06
, 4D075DC27
, 4D075EA33
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041BA10
, 4F041BA13
, 4F041BA22
, 4F041BA34
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042AA10
, 4F042BA08
, 4F042BA12
, 4F042DH09
引用特許: