塗布装置および塗布方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：本多一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-077541
公開番号（公開出願番号）：特開2003-340348
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】【課題】塗料安定性の悪化や塗布液の分散性の低下を引き起こすことなく塗膜の薄膜化を図ることができ、これにより、媒体特性および表面平滑性に優れた高記録密度磁気記録媒体を製造することのできる塗布装置および塗布方法を提供する。【解決手段】塗布液を供給する第1供給装置1と、塗布液を希釈するための溶剤を供給する第2供給装置4と、第1供給装置1と第2供給装置4とより夫々供給される塗布液と溶剤とが導入される流入口を有する希釈混合機8と、希釈混合機8から吐出される希釈済み塗布液が導入され、希釈済み塗布液を被塗布物上に塗布する塗布部15とを具備する塗布装置である。被塗布物上に塗布液を塗布するに際し、塗布液を、被塗布物上への塗布直前に塗布濃度まで希釈する塗布方法である。

請求項（抜粋）：

塗布液を供給する第1供給装置と、該塗布液を希釈するための溶剤を供給する第2供給装置と、該第1供給装置と該第2供給装置とより夫々供給される前記塗布液と前記溶剤とが導入される流入口を有する希釈混合機と、該希釈混合機から吐出される希釈済み塗布液が導入され、該希釈済み塗布液を被塗布物上に塗布する塗布部とを具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (6件)：

B05C 11/10 , B01F 7/00 , B05C 5/02 , B05D 1/26 , B05D 5/12 , G11B 5/842

FI (6件)：

B05C 11/10 , B01F 7/00 Z , B05C 5/02 , B05D 1/26 Z , B05D 5/12 A , G11B 5/842 Z

Fターム (39件)：

4D075AC02 , 4D075AC72 , 4D075AC84 , 4D075BB16X , 4D075CA24 , 4D075CA48 , 4D075DA04 , 4D075DB48 , 4D075DB53 , 4D075DC28 , 4D075EA10 , 4D075EB15 , 4D075EB38 , 4D075EC10 , 4F041AA12 , 4F041AB02 , 4F041BA34 , 4F041BA42 , 4F041BA56 , 4F041CA02 , 4F041CA15 , 4F041CA22 , 4F042AA22 , 4F042CA01 , 4F042CA04 , 4F042CA06 , 4F042CB02 , 4F042CB08 , 4F042CB24 , 4F042CB27 , 4G078AA03 , 4G078CA12 , 4G078DA16 , 4G078DC10 , 4G078EA10 , 4G078EA15 , 5D112AA05 , 5D112BB18 , 5D112CC08

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-233131
特開昭60-143868
特開昭61-238362

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