特許

J-GLOBAL ID：200903025359995154

洗浄方法

発明者： 原 孝志 ,  矢田 誠人
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362670
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170577
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】 高い洗浄能力が得られる洗浄方法を提供すること。【解決手段】 本発明の洗浄方法は、洗浄対象物であるワークに洗浄液を接触させて、かかるワークに付いた汚れを除去する際に、洗浄液の周囲の圧力を変化させる操作を行うことを特徴とする。この場合、圧力を増加させる操作と減少させる操作とを、複数回周期的に行うことが好ましい。

請求項（抜粋）：

洗浄対象物であるワークに洗浄液を接触させて、該ワークに付いた汚れを除去する洗浄方法であって、前記ワークの洗浄中に、前記洗浄液の周囲の圧力を変化させる操作を行うことを特徴とする洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/04 ,  B08B 3/10 ,  G04D 3/00 ,  B08B 7/00

FI (4件)：

B08B 3/04 A ,  B08B 3/10 A ,  G04D 3/00 ,  B08B 7/00

Fターム (16件)：

3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116AB38 ,  3B116BB03 ,  3B116BB82 ,  3B116BB85 ,  3B116CC05 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201AB38 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-030329
  
• 減圧洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-348088   出願人：日立プラント建設株式会社
• 特開平3-044927
  
• 特開平1-281188