特許
J-GLOBAL ID：200903025370327198
マイクロ波励起プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-296727
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060657
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【課題】 高速プロセスを行うために大パワーのマイクロ波を投入しても少量の冷却用ガスの供給により誘電体窓の熱破壊を防止することが可能なマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供するものである。【解決手段】 プラズマ生成室24および処理室25を有する反応容器22と、前記プラズマ生成室24内に処理ガスを供給するためのガス供給管26と、前記反応容器22の開口部に上面が前記反応容器22の上壁面から下方に位置するように配置された誘電体窓30と、前記反応容器22の上に前記誘電体窓30に対して所望の隙間をあけて配置され、マイクロ波導入口34を有する天板31と、前記天板31に配置された下面が開口された矩形状の導波管35と、前記天板31に設けられ冷却用ガスを導入するためのガス導入部36a,36bと、前記導波管に設けられたガス排出部とを具備したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
上面が開口され、プラズマを生成するプラズマ生成室と、このプラズマ生成室の下方に形成された被処理部材が配置される処理室を有する反応容器と、前記プラズマ生成室内に処理ガスを供給するためのガス供給管と、前記反応容器の開口部を封止する誘電体窓と、前記反応容器上に前記誘電体窓に対して所望の隙間をあけて配置されたマイクロ波導入口を有する天板と、前記天板上に配置された導波管と、前記天板に設けられ、マイクロ波導入による発熱を冷却する冷却手段と、を具備したことを特徴とするマイクロ波励起プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, C23C 16/44
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
C23C 16/50
, C23C 16/44 D
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
