特許

J-GLOBAL ID：200903025380316194

ウェーハの洗浄装置

発明者： スク-ビン ハン ,  ユン-ジュン フー
出願人/特許権者： エルジー セミコン カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 笹島 富二雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-219604
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083982
出願日： 1997年08月14日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 洗浄液噴射ノズルを介して噴射される洗浄液がウェーハの下端縁部或いは側面に均一に噴射されるようにして、ウェーハの洗浄効果を高めて洗浄均一度を向上させる。【解決手段】 多数のウェーハの積載されるウェーハカセットが内在する洗浄槽と、前記洗浄槽の下端に設置される洗浄液供給管と、一端が前記洗浄液供給管に接続され、他端が閉塞されると共に、表面に形成された複数の孔18-1を介して浄液が噴射される洗浄液噴射ノズル18と、を含んで構成されるウェーハの洗浄装置において、洗浄液噴射ノズル18の一端1から他端2に向かうにつれ、洗浄液が噴射される孔18-1の断面積を次第に減らすように形成し、各孔18-1から噴射される洗浄液の噴射圧力を略均一化させる。従って、ウェーハ上に均一の圧力で前記洗浄液が噴射されるようになり、ウェーハの洗浄効果が高まって洗浄均一度が向上する。

請求項（抜粋）：

ウェーハが洗浄される洗浄槽と、該洗浄槽の下部に配設され、洗浄槽内に洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、を含んで構成され、該洗浄液噴射ノズルは、一端が洗浄液供給管に接続され、他端が閉塞されると共に、洗浄液を噴射する噴射孔が軸方向に沿って略一定間隔で複数形成されたウェーハの洗浄装置において、前記噴射孔は、一端から他端に向けて、その断面積が減少するように形成されたことを特徴とするウェーハの洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 浸漬型基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-283661   出願人：大日本スクリーン製造株式会社