特許
J-GLOBAL ID:200903025394046955
循環式冷却水系の水処理方法および水処理システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-096279
公開番号(公開出願番号):特開2002-282866
出願日: 2001年03月29日
公開日(公表日): 2002年10月02日
要約:
【要約】【課題】 冷却水系の運転状況や水質の変化に随時対応が可能な循環式冷却水系の水処理方法および水処理システムを提供する。【解決手段】 水処理システムは、循環式冷却水系にスライム防止剤を添加するスライム防止剤添加手段と、前記水系の自然電位を測定する電位測定手段と、前記水系のスライム付着状況を測定するスライム測定手段と、スライム測定手段により測定されたスライム付着状況に応じて、スライム防止剤添加手段によりスライム防止剤を添加する際、電位測定手段により測定された自然電位に基づいて予め設定された電位しきい値を超えないように、スライム防止剤添加手段を制御する制御部とを備えたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
循環式冷却水系にスライム防止剤を添加するスライム防止剤添加手段と、前記水系の自然電位を測定する電位測定手段と、前記水系のスライム付着状況を測定するスライム測定手段とを備え、スライム測定手段により測定されたスライム付着状況に基づいて、スライム防止剤添加手段によりスライム防止剤を添加する際、電位測定手段により測定された自然電位に基づいて予め設定された電位しきい値を超えないように、スライム防止剤添加手段を制御することを特徴とする循環式冷却水系の水処理方法。
IPC (13件):
C02F 1/50 550
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 540
, C02F 1/00
, C02F 1/76
, F28F 19/01
, G01N 21/05
, G01N 21/59
, G01N 27/26 351
, G01N 27/26
, G01N 27/416
FI (13件):
C02F 1/50 550 L
, C02F 1/50 510 C
, C02F 1/50 520 K
, C02F 1/50 531 P
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/00 V
, C02F 1/76 A
, G01N 21/05
, G01N 21/59 Z
, G01N 27/26 351 H
, G01N 27/26 351 K
, F28F 19/00 501 B
, G01N 27/46 341 Z
Fターム (25件):
2G057AA01
, 2G057AB04
, 2G057AB06
, 2G057AC01
, 2G057BA05
, 2G057BB06
, 2G059AA05
, 2G059BB05
, 2G059CC12
, 2G059DD13
, 2G059EE01
, 2G059FF04
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG10
, 2G059KK01
, 2G059MM01
, 2G059MM10
, 2G059PP04
, 4D050AA08
, 4D050AB06
, 4D050BB06
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA12
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る