特許
J-GLOBAL ID:200903059372465263

水系の水処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-035544
公開番号(公開出願番号):特開2001-004590
出願日: 2000年02月14日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 汚れ付着傾向モニタリング結果を少スペース、安価な装置によりオンライン測定し、結果をもとにスライムコントロール強化処理を行うことができる冷却水系の水処理方法を提供する。【解決手段】 鋭敏化処理を施した金属材料を備えた微生物的汚れ付着のモニタリング用センサ11を利用する水処理方法であって、該センサの電位変化に応じて水処理を行う。センサの電位が閾値に達すると薬注ポンプ15,17の双方で薬注し、該電位が正常値まで低下するとポンプ15のみで薬注を行う。
請求項(抜粋):
鋭敏化処理を施した金属材料を備えた微生物的汚れ付着のモニタリング用センサを利用する水処理方法であって、該金属材料からなるセンサの電位変化に応じて水処理を行うことを特徴とする水系の水処理方法。
IPC (6件):
G01N 27/416 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 550 ,  G01N 27/26 351 ,  G01N 33/18 106
FI (7件):
G01N 27/46 341 M ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 C ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 550 L ,  G01N 27/26 351 H ,  G01N 33/18 106 Z
引用特許:
審査官引用 (5件)
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