基板処理装置および基板処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-280886
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125641
出願日： 1996年10月23日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】基板表面の全域を十分に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】第1の工程1-Iおよび第2の工程1-IIにおいて、ブラシ洗浄および薬液処理と並行して超音波洗浄が行われる。その後、基板上の薬液を純水で置換する(第3の工程1-III)。【効果】薬液洗浄と超音波洗浄との相乗効果によって、ブラシ洗浄によっては洗浄できない基板の周縁部をも、良好に洗浄できる。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転させるための基板保持手段と、超音波振動部を有し、上記基板保持手段に保持された基板に、上記超音波振動部によって超音波振動が付与された純水を供給するための超音波ノズル手段と、上記基板保持手段に保持された基板に薬液を供給するための薬液供給ノズル手段と、上記超音波ノズル手段から基板の表面に超音波振動が付与された純水を供給しつつ、上記薬液供給ノズル手段から当該基板の表面に薬液を供給するように、上記超音波ノズル手段および上記薬液供給ノズル手段を制御する手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 1/04 , B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 N , B08B 1/04 , B08B 3/12 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-048822 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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