特許
J-GLOBAL ID：200903025502228593
マルチビーム記録装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323587
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147007
出願日： 1996年11月19日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 描画密度を高めるために、アパーチャー径とピッチとを小さくする場合にはより微細な加工が必要となり、投影倍率を小さくする場合には投影光学系にはより収差の少ない高精度な結像性能が要求され、いずれも製造コストが増大する。【解決手段】 有効な面積を持つ複数の光源(42,43)が離散的に2次元配列された光源部と、この複数の光源の像を被走査面(3)上に形成する投影光学系(44,45)と、露光期間中に光源の像と被走査面とを第1の方向に沿って相対的に直線移動させる第1の走査手段とを備え、光源部及び投影光学系が、被走査面上で第1の方向と直交する第2の方向における幾何光学的な光源像の径をa、第2の方向における光源像の配列ピッチをb、第1の方向における光源の配列数をMとしたときに、(a×M)/b > 1の条件を満たすことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
有効な面積を持つ複数の光源が離散的に2次元配列された光源部と、該光源の像を被走査面上に形成する投影光学系と、露光期間中に前記光源部と前記被走査面とを第1の方向に沿って相対的に直線移動させる第1の走査手段とを備え、前記光源部及び前記投影光学系は、前記被走査面上で前記第1の方向と直交する第2の方向における幾何光学的な前記光源像の径をa、前記第2の方向における前記光源像の配列ピッチをb、前記第1の方向における光源の配列数をMとしたときに、(a×M)/b > 1の条件を満たすことを特徴とするマルチビーム記録装置。
IPC (5件)：
B41J 2/44
, B41J 2/45
, B41J 2/455
, G02B 26/10
, H04N 1/113
B41J 3/00 D
, G02B 26/10
, B41J 3/21 L
, H04N 1/04 104 Z
