特許
J-GLOBAL ID:200903025542213580

ブロックイソシアネート化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-316071
公開番号(公開出願番号):特開2006-151967
出願日: 2005年10月31日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【解決手段】本発明に係る一般式(III)で示されるブロックイソシアネート化合物の製造方法は、ピラゾール系化合物(I)と、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物(II)とを、0°C〜90°Cの温度範囲で反応させることを特徴とする。(式中、R1、R2、Q1、Q2は、明細書に記載された意味と同一である。)【効果】本発明の製造方法によれば、効率良くブロックイソシアネート化合物が得られるとともに、副生物の生成がほとんどないため、該化合物を高純度で得ることができる。さらに、本発明の製造方法は、従来のようにトルエンやキシレンなどの不活性溶媒を用いる必要がないため、人体や環境への安全性に優れるとともに、製造工程や製造設備を簡易なものとすることができる。本発明により製造されたブロックイソシアネート化合物は、不活性溶媒が残留しておらず、各種コーティング剤、接着剤、成形材料などの広範な分野で好適に使用することができる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
一般式(I)
IPC (2件):
C07D 231/12 ,  C07D 231/34
FI (2件):
C07D231/12 D ,  C07D231/34
Fターム (8件):
4J100AL08P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA37P ,  4J100BC73P ,  4J100BC73Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (1件)

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