基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-018567
公開番号（公開出願番号）：特開2005-211718
出願日： 2004年01月27日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】気体の供給を工夫することにより、全ての基板に均一に処理を行うことができる。【解決手段】バブラ本体13が基板Wの整列方向に長軸を有する棒状体であるので、基板Wの整列方向に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができる。また、バブラ本体13の全体が多孔質部材であるので、細かい気泡を発生させることができる。よって、基板Wの整列方向の位置にかかわらず、全ての基板Wに細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板Wに対して均一に処理を行うことができる。しかも、バブラ本体13が整列方向と直交する方向にも複数設けられているので、基板W面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板Wの面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができ基板Wの全面においても均一に処理できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内において一方向に整列された複数の基板を保持する保持手段と、前記処理槽内の処理液に気泡を発生する気泡発生手段とを備え、前記気泡発生手段は前記一方向に長軸の棒状体を有し、前記棒状体の少なくとも一部分は多孔質部材で構成され、かつ前記多孔質部材は前記一方向に沿って配置されているとともに、前記棒状体は前記一方向に直交する方向に複数配設されたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B3/10 , H01L21/304 , H01L21/306

FI (3件)：

B08B3/10 Z , H01L21/304 642A , H01L21/306 J

Fターム (8件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB42 , 3B201BB02 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 5F043EE06 , 5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (1件)

特公平8-2419号公報(第1図及び第2図)

審査官引用 (1件)

液体処理方法、液体処理装置、及び電気光学パネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-383028 出願人：セイコーエプソン株式会社

前のページに戻る