特許
J-GLOBAL ID：200903025638752296
ロタキサン複合体及びその製造方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-246099
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083726
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】新規なロタキサン複合体及びその製造方法の提供【解決手段】一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。【化1】(I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、2価の有機基を表し、Lは、2価の有機基を表し、Xは任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。m、nは任意の数を表す。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。
【化1】(I)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4C022NA04
, 4J031AA41
, 4J031AB04
, 4J031AC05
, 4J031AC07
, 4J031AD01
, 4J031BA12
, 4J031BA29
, 4J031CC05
, 4J031CD09
, 4J031CD10
, 4J031CD12
, 4J031CD18
, 4J031CD22
, 4J031CD25
