特許
J-GLOBAL ID:200903025638752296

ロタキサン複合体及びその製造方法。

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-246099
公開番号(公開出願番号):特開2004-083726
出願日: 2002年08月27日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
【課題】新規なロタキサン複合体及びその製造方法の提供【解決手段】一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。【化1】(I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、2価の有機基を表し、Lは、2価の有機基を表し、Xは任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。m、nは任意の数を表す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。 【化1】(I)
IPC (2件):
C08G85/00 ,  C07D323/00
FI (2件):
C08G85/00 ,  C07D323/00
Fターム (15件):
4C022NA04 ,  4J031AA41 ,  4J031AB04 ,  4J031AC05 ,  4J031AC07 ,  4J031AD01 ,  4J031BA12 ,  4J031BA29 ,  4J031CC05 ,  4J031CD09 ,  4J031CD10 ,  4J031CD12 ,  4J031CD18 ,  4J031CD22 ,  4J031CD25
引用特許:
出願人引用 (2件)

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