特許

J-GLOBAL ID：200903025638752296

ロタキサン複合体及びその製造方法。

発明者： 浅川 真澄 ,  秋山 めぐみ ,  清水 敏美
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-246099
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083726
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】新規なロタキサン複合体及びその製造方法の提供【解決手段】一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。【化1】(I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、2価の有機基を表し、Lは、2価の有機基を表し、Xは任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。m、nは任意の数を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。 【化1】(I)

IPC (2件)：

C08G85/00 ,  C07D323/00

FI (2件)：

C08G85/00 ,  C07D323/00

Fターム (15件)：

4C022NA04 ,  4J031AA41 ,  4J031AB04 ,  4J031AC05 ,  4J031AC07 ,  4J031AD01 ,  4J031BA12 ,  4J031BA29 ,  4J031CC05 ,  4J031CD09 ,  4J031CD10 ,  4J031CD12 ,  4J031CD18 ,  4J031CD22 ,  4J031CD25

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポリ[3]ロタキサン製造用モノマ-及びその製造方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-337377   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• ポリ〔3〕ロタキサンおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-266237   出願人：ジェイエスアール株式会社