特許
J-GLOBAL ID:200903025681754340
熱処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梶原 辰也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-297352
公開番号(公開出願番号):特開2002-110556
出願日: 2000年09月28日
公開日(公表日): 2002年04月12日
要約:
【要約】【課題】 ウエハの実際の温度を計測して熱処理温度を適正に制御する。【解決手段】 バッチ式縦形ホットウォール形熱処理装置10において、プロセスチューブ11を封止するキャップ20に保持パイプ52と全反射面57を有した導波棒56とを備えたL字形状の放射温度計50を挿通し、放射温度計50は放射温度計50からの計測温度でヒータ32をフィードバック制御するコントローラ33に接続する。導波棒56をボート21に保持されたウエハ1、1間に挿入して保持パイプ52で回動させることにより、全反射面57でウエハ1の中心部の温度と周辺部の温度とを計測できるように構成する。【効果】 放射温度計でウエハの中心部の現在の実際の温度を計測しヒータをフィードバック制御することで、熱処理中や昇降温時のウエハの中心部と周辺部の温度差を解消できるため、ウエハ面内の処理状態分布の均一性を向上できる。
請求項(抜粋):
プロセスチューブの処理室に温度計が設置されており、この温度計は前記処理室内へ基板の厚さ方向に挿入されて回動自在に支承された支軸部と、この支軸部に保持されて前記基板と平行方向に延設された回動部と、この回動部に設けられた検出部とを備えており、前記支軸部の回動に伴う前記回動部の回動によって検出部が前記ウエハの径方向の複数点に対応した温度を計測するように構成されていることを特徴とする熱処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/205
, H01L 21/22 511
, H01L 21/22
, H01L 21/324
FI (4件):
H01L 21/205
, H01L 21/22 511 Q
, H01L 21/22 511 A
, H01L 21/324 T
Fターム (9件):
5F045BB02
, 5F045DP19
, 5F045DQ05
, 5F045EC02
, 5F045EJ04
, 5F045EJ10
, 5F045EK22
, 5F045EM08
, 5F045GB05
引用特許:
審査官引用 (1件)
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ウエハ温度の測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-024471
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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