特許

J-GLOBAL ID：200903025694816884

紫外線用ペリクルおよびペリクル用ケース

発明者： 重 松 茂 人 ,  中 川 広 秋 ,  近 藤 正 浩
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-029073
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228099
出願日： 1997年02月13日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】耐光性(耐久性)に優れた200nm以下の紫外線用ペリクルおよびペリクル用ケース。【解決手段】ペリクル膜と、該ペリクル膜を接着剤(a) 層を介して張設保持する保持枠と、保持枠を被保護体に固定させる接着剤(b) 層とからなり、前記接着剤(a) 層および接着剤(b) 層は、該層から発生してペリクル膜に吸着あるいは吸収される化合物であって、かつ波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物の発生量が200ppm 以下である波長140〜200nmの紫外線用ペリクルおよび該ペリクル用ケース。波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物は、具体的に、芳香族化合物、ケトンまたは窒素化合物である。

請求項（抜粋）：

ペリクル膜と、該ペリクル膜を接着剤(a) 層を介して張設保持する保持枠と、保持枠を被保護体に固定させる接着剤(b) 層とからなり、前記接着剤(a)層および接着剤(b)層は、該接着剤層から発生してペリクル膜に吸着あるいは吸収されうる化合物であって、かつ波長140〜200nmの紫外線照射によりラジカルを発生する化合物の発生量が200ppm 以下であることを特徴とする波長140〜200nmの紫外線用ペリクル。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  B65D 85/86 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/14 J ,  G03F 1/14 M ,  B65D 85/38 R ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-071134
  
• ペリクル及びペリクルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-293199   出願人：東ソー株式会社
• 特開昭63-064048