特許
J-GLOBAL ID:200903025777736300
磁気ヘッドおよびこれを用いた磁気記録装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-077173
公開番号(公開出願番号):特開平10-269523
出願日: 1997年03月28日
公開日(公表日): 1998年10月09日
要約:
【要約】【課題】 狭トラックを有し、高周波で駆動する磁気ヘッドを得る。また、この磁気ヘッドを用いて、超高密度記録装置を得る。【解決手段】 第1の磁性膜パターンと第4の磁性膜パターンとの間に挟まれたコイル導体と、該第1の磁性膜パターンに対して磁気的に結合した第2の磁性体パターンと、該第4の磁性膜パターンに対して磁気的に結合した第3の磁性体パターンと、該第2の磁性膜パターンと第3の磁性膜パターンとの間に挟まれた磁気的なギャップとを有する磁気ヘッドにおいて、上記第2の磁性膜パターンと第3の磁性膜パターンに接する絶縁性で非磁性の単一膜が少なくとも第1の磁性膜パターンを被っている磁気ヘッドとする。【効果】 狭トラック(1μm以下)を有し、しかも高周波(150MHz)で駆動する磁気ヘッドが得られ、これを用いた磁気記録装置は10Gb/in2級の超高密度記録が可能となる。
請求項(抜粋):
第1の磁性膜パターンと第4の磁性膜パターンとの間に挟まれたコイル導体と、該第1の磁性膜パターンに対して磁気的に結合した第2の磁性体パターンと、該第4の磁性膜パターンに対して磁気的に結合した第3の磁性体パターンと、該第2の磁性膜パターンと第3の磁性膜パターンとの間に挟まれた磁気的なギャップとを有する磁気ヘッドにおいて、上記第2の磁性膜パターンと第3の磁性膜パターンに接する絶縁性で非磁性の単一膜が少なくとも第1の磁性膜パターンを被っていることを特徴とする磁気ヘッド。
IPC (2件):
FI (3件):
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
, G11B 5/39
引用特許:
審査官引用 (2件)
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薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-031771
出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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磁気記憶装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-082864
出願人:株式会社日立製作所
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