特許
J-GLOBAL ID：200903025858735996
結晶損傷除去装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-014614
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206053
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 基板に照射されるようにセットされた複数の波長域の異なる光源1、2、3を少なくとも有し、結晶損傷8の深さ方向の分布に従って各光源の強度を変化させることにより結光源の全体強度の波長分布を変化させる。【効果】 イオン衝撃による結晶損傷はイオン種やイオンエネルギーにより異なり、注入層の深さに応じて異なる深さ分布を持っている。一方光は基板の表面から吸収され基板を加熱するが、光の波長域が違うと基板での吸収係数が違うため基板の加熱の深さ分布が異なってくる。紫外領域の光は吸収係数が大きいため表面近傍をおもに加熱し、赤外領域の光は吸収係数が小さいためより深いところまで加熱する。3つの異なった波長領域の光を重畳することにより任意の加熱分布を形成できる。加熱分布を結晶損傷8の深さ分布と一致するように、3つの光源1、2、3の各強度を制御することにより、最適の熱処理効果が得られる。
請求項（抜粋）：
基板に照射されるようにセットされた複数の波長域の異なる光源を少なくとも有し、結晶損傷の深さ方向の分布に従って各々の光源の強度を変化することにより結光源の全体強度の波長分布を変化させることを特徴とする結晶損傷除去装置。
IPC (3件)：
H01L 21/268
, H01L 21/265
, H01L 21/324
